產(chǎn)品展示
CXG-2型超臨界細微粒子制備裝置 該設(shè)備在RESS工藝基礎(chǔ)上，適當放寬超臨界環(huán)境的調(diào)整范圍，可滿足不同物料粒子的制備，結(jié)品虢上蓋設(shè)置三通道，可升級為SEDS工藝。時間：2024-12-17型號：CXG-2型廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：1278
SFE-2型超臨界納米粒子制備裝置該設(shè)備采用RESS 工藝,在超臨界狀態(tài)下，物料無表面張力束縛，迅速實現(xiàn)干操并保護，阻止晶核極附成長。通過改變流體的進入方向和物料溶液的進入方式，可實現(xiàn)GAS工藝，共用一套超臨界制備系統(tǒng)，在不影響工藝的前提下，節(jié)約成本。蓋體內(nèi)壁經(jīng)精確打磨，在噴咀噴出范圍內(nèi)不會發(fā)生黏壁現(xiàn)象，也可根據(jù)用戶特定要求配置內(nèi)襯,時間：2024-12-17型號：SFE-2型廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：1400
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